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熔炼添加锌颗粒,高熵合金熔炼添加,锌颗粒,锌粉末,锌靶材

熔炼添加锌颗粒,高熵合金熔炼添加,锌颗粒,锌粉末,锌靶材

常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输

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  • 高熵合金,高纯金属材料

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  • 联系人:
    王先生
  • 职   位:
    经理
  • 地   址:
    北京 怀柔区
品名:0#锌牌号:Zn99.995产地:北京
锌含量≥:99.995%杂质含量:0.005%重量:1kg/块
品牌:北京研邦是否危险化学品:否

北京研邦新材料科技有限公司为您长期供应高纯金属高纯靶材以及靶的相关产品 
    常规靶材生产工艺为铸锭感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型锻造热轧或冷轧拉伸)→→热处理均质化再烧结)→→精密机械加工切削)→→与背板结合软焊扩散焊)→→检测超声波,X光射线探伤)→→包装运输

    北京研邦新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下

1 高纯度金属单质包括金属粉金属颗粒金属丝金属块金属片等产品包括纯铁贵金属等的锭棒材丝材板材带材箔材颗粒粉末 
    2 高纯金属靶材合金靶材陶瓷靶材镀膜材料金属靶材铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au  

3 合金靶材钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe 

4 陶瓷靶材氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2 二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO2, 二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镨靶PrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO(In2O3+SnO2),AZO(ZnO+AL203),LGZO碳化硅靶氮化钛靶氧化铬靶一氧化硅靶氧化铈靶、、二氧化铪靶三氧化二铝靶五氧化二钽五氧化二铌靶氟化钇靶硒化锌靶氮化硅靶氮化钛靶铌酸锂靶、、钛酸镧靶氧化镍靶等陶瓷靶材产品通过各种方法磁控溅射真空镀等应用真空镀膜的各种领域科学研究航天航空汽车微电子集成电路产业光源光学装饰平面显示器产业信息存储产业数据存储等等

注所有产品规格可根据客户要求定做


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